光刻胶寻宝图:光刻胶产业链公司

奇谈君 2021-06-0220:53:51 评论 199

1950s贝尔实验室开发集成电路的过程中与柯达合作开发了全球首款半导体光刻胶----基于环化橡胶-双叠氮体系的KTFR光刻胶。1957-1972年间,其为半导体工业的发展立下了汗马功劳,直至触及2μm的分辨率极限。Hoechst子公司Kalle在1930s开发的一种印刷材料被贝尔实验室改进后用作下一代光刻胶材料,即重氮萘醌-酚醛树脂体系,该体系一直贯穿了g线/i线光刻胶时代,至今仍在应用。

1980s光刻技术发展到深紫外光刻时,光源强度严重制约了光刻机的晶圆处理效率。为解决这一问题,IBM的化学工程师开发了划时代的化学放大光刻胶。然而IBM突破KrF光刻胶时半导体工业尚未发展到需使用KrF光刻的时代,KrF胶成了“早产儿”,直至1995-1997年半导体工艺进展至0.25μm节点时KrF胶才迎来了高速增长时代。ArF光刻胶雏形也源自IBM,但最终也由日本厂商发扬光大。

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